思锐智能携旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索从微观到宏观层面

2021-10-30 15:35:48

实际上，Beneq P系列设备是专门为工业规模生产设计的原子层沉积系统，包括P400A、P800和最新的P1500型号，均配备大容量反应器，克服了ALD同类设备沉积速度慢、与大尺寸产品不兼容、难以大规模生产等局限性。是从研发阶段到大规模工业化生产的理想工具，可用于光学镀膜、半导体设备零部件的镀膜、有机发光二极管及电子器件的防潮镀膜。此外，P系列设备还支持定制反应室的配置选项，适用于各种基板。此外，反应室易于更换，从而最大限度地减少了维护造成的停机时间。

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图4: Sri展示其Beneq品牌P800 ALD设备型号。

除了P系列工业ALD设备外，新一代航天ALD设备也获得了业界的广泛关注。据悉，Beneq C2R设备属于“第一个吃螃蟹者”，旋转等离子体增强ALD(PEALD)工艺首次成功应用于量产。这是一种ALD涂层解决方案，具有超快速的容量增长。由于贝内克C2R设备采用旋转PEALD工艺，沉积薄膜的厚度可达每小时几微米。因此，在选择沉积速率高、成本低、工艺温度低、膜质量最优的ALD设备时，Beneq C2R是一个理想的选择。

拓展ALD创新边界，应用Transform系列连杆激光雷达等微纳光学系统涂层。

为应对光电系统小型化、结构复杂的发展趋势，ALD镀膜技术不断改进和优化，以满足市场需求。以流行的激光雷达为例，虽然激光雷达系统具有不同类型的结构，但关键部件如激光器和二极管、光学元件、基于固态激光雷达的波控、光电探测器和信号处理单元在制备过程中不可避免地需要ALD镀膜工艺。

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图5:5中的VCSEL器件：激光雷达系统需要复杂的镀膜工艺才能实现功能完整性。

对此，陈骧龙表示：“先进的ALD涂层技术可以最大限度地提高器件的光电性能和可靠性。Beneq Transform系列非常适合激光雷达等微纳光电系统，其优异的ALD镀膜工艺仍能保持超高保形性、薄膜致密性、精确控制膜厚等诸多优势。我们致力于通过开发P系列、C2R系列、Transform系列、即将推出的GENESIS系列等丰富的产品线，将ALD科技推向新的高度，打破对ALD增长缓慢的固定思维，进一步推动ALD科技进入更产业化的应用场景！”