尹志尧揭秘：中微是怎么从初创公司，做到全球领先的刻蚀

2021-10-21 18:20:22

9月15日，中微半导体设备(上海)有限公司创始人、董事长、总经理尹志尧在一次活动中，就如何打造一家高质量、有竞争力的半导体设备公司进行了探讨，并表示，半导体公司的设备可以分为四大类：掩膜版对准器、等离子刻蚀机、薄膜设备、测试设备。

以刻蚀机设备为例，等离子刻蚀设备市场增长迅速，年市场规模超过120亿美元。而且等离子刻蚀设备已经在工厂投入了最大的一部分，占工厂设备成本的30%以上。

尹志尧提到，一定要把大力推动和发展半导体微加工设备产业提上日程。半导体设备公司不仅是集成电路制造的供应商和产业链，也是集成电路制造的核心部分。在高科技方面，大国博弈集中在半导体设备和关键元器件的限制上。

目前，微半导体研发的四类设备已达到国际领先水平，如CCP电容刻蚀机、ICP电感刻蚀机、深硅刻蚀机、MOCVCD。

其中，中伟研发的第三代CCP高能等离子刻蚀机，从过去的20:1，发展到如今的超高纵横比孔隙中的60:1。此外，微CCP蚀刻机在台湾省领先的晶圆厂和存储厂占据了30%的市场份额。2018年第四季度，Micro MOCVD设备在国际氮化镓基MOCVD中的市场份额已达到70%以上。

尹志尧表示，近十年来，国内已有54家公司和科研院所宣布了MOCVD设备的开发，但目前只有一家成功，并实现了稳定量产。多年来，微型MOCVD设备不断提高蓝色和绿色发光二极管的波长均匀性。目前，LED波长的片上均匀性已经达到0.71nm。

关于如何做大做强微型半导体，尹志尧表示，微型半导体聚焦“四个十强”，总结17年经验教训，持续制定科技型企业管理规则，包括：微型产品开发十大原则；微观战略和商业的十大原则；微管理十原则。

在开发产品时，尹志尧说，很难做出自己独特的产品，因为它不应该总是遵循外国人的设计。因此，中卫提出了甚高频去耦反应离子刻蚀，使高频和低频都在下电极上。目前，这项技术具有一定的优势。

此外，中伟公司还开发了CCP单机双机、ICP单机双机，可覆盖90%的刻蚀应用，不仅降低成本30%，还提高效率50%。

战略上，中伟将在三个维度(集成电路设备、泛半导体设备和非半导体设备)成长，并计划在未来10到15年内成为世界级的微加工设备公司。

在运营管理方面，中微通过运营KPI管理不断提升质量管理水平，截至2021年6月，中微已申请专利1883项，获得专利1115项。

尹志尧表示，虽然中伟在知识产权方面做得比较全面，但也多次被美国公司起诉，包括美国公司对中伟提起的3起诉讼和中伟对美国公司提起的1起诉讼。值得注意的是，在专利诉讼中，有两次完全胜诉，另外两次达成和解，优势很大。

中微公司在等离子刻蚀机方面的技术优势也使得美国在2015年取消了对华出口管制，中微公司相关产品的出口环境变得极为宽松。

值得注意的是，中微实施了员工期权激励、全员持股的模式，被认为是高科技公司发展的生命线，是社会主义集体所有制的核心。尹志尧认为，企业的价格由投入的资本和劳动创造的价值两部分组成，但公司80%的市场价值是劳动创造的。

不要忘记你的主动心态，是回归“达斯K”

尹志尧提到自己只占公司1%的股份，但这并不代表他不能把公司做好。要把公司做大做强，就要把强势集团的总能量和净能量最大化。总能量最大化即使充分发挥各阶级各部门的活跃人群，净能量最大化也意味着如何使各阶级各部门的能量不在内耗中消失。

最后，尹志尧表示，公司的文化和风格是一家公司从初创公司走向成功的主要原因。打造领先的百年老店，需要在初创期有过硬的技术产品，在大公司期有足够的运营能力。要成为一家领先的公司，就要看公司的文化和风格。