泛林集团自维护设备创生产率新纪录

2020-12-19 09:56:37

最近，世界领先的半导体制造设备和服务供应商泛林集团宣布，其自我维护设备为半导体行业工艺的生产率设定了新的基准。通过与领先半导体制造商的合作，泛林集团成功实现了刻蚀工艺平台全年不间断运行。

在今天的半导体工艺环境中，平均清洗间隔是限制刻蚀系统生产率提高的主要因素。为了保持稳定的性能，通常需要每月甚至每周清洁一次刻蚀处理室，并更换被等离子体处理腐蚀的部件。4月，2020，泛林集团及其客户实现了一个雄心勃勃的目标，实现了设备连续运行365天，无需维护和清洁，创造了里程碑式的记录。

泛林集团刻蚀产品业务部高级副总裁兼总经理瓦海德瓦赫迪说：“这一突破性的成就表明，泛林集团注重客户合作，帮助客户解决最具挑战性的技术和生产力问题。泛林集团致力于提供符合工业4.0的技术，使芯片制造企业的生产过程更快、更准确、更高效。这个新的行业基准证明了自维护设备可以减少人工，提高生产效率。”

通常，刻蚀过程模块需要定期维护和更换耗材。更换和清洁零件必须通过打开腔室来完成。关闭试验箱时，需要重新验证试验箱环境，费时费力，不仅影响产量，还依赖于复杂的调度安排。通过自我维护解决方案，设备可以独立决定更换零件的时间，并且可以在不打开腔室的情况下自动更换，从而减少设备的停机时间，提高工厂的生产效率。

泛林集团的这个创新解决方案包括Kiyo？过程模块，通过真空传输可更换边缘环的Corvus。r系统、使用寿命更长的腔室组件和优化的自动清洗技术，无需晶圆。其中，实现这种前所未有的生产力的关键在于Corvus R系统，这是业界第一个可以自动更换耗材的系统。长期以来，边缘环腐蚀一直存在于刻蚀过程中，需要经常打开试验箱更换零件。科尔维斯R不用打开密室就能自动更换新的边缘环。