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多层线路板沉金工艺控制简介

2020-09-26 11:23:48

多层印制线路板镀金工艺控制简介
一、工艺简介
沉金工艺的目的是在印制线路表面沉积一层色泽稳定、亮度好、镀层光滑、可焊性好的镍金镀层。基本上可以分为四个阶段:预处理(脱脂、微蚀刻,活化和后浸)、沉镍、沉金和后处理(废金水洗涤、去离子水洗涤和干燥)。
第二,预处理
金沉淀预处理一般包括以下步骤:脱脂(30-482)、微蚀刻(60g/APS,2%H2SO4)、活化(10 t-354-2)、后浸(1% H2SO4)。去除铜表面的氧化物,在铜表面沉积钯作为镍沉积的活化中心。一个环节处理不好,会影响后续的镍沉淀和金沉淀,导致批量报废。在生产过程中,各种药水必须定期分析补充,控制在要求的范围内。一个更重要的例子是,微蚀刻率应控制在“25U—40U”。当活化药液的铜含量超过800PPM时,必须打开新的钢瓶。药液筒的清洗和维护对PCB质量也有很大影响。除油缸、微蚀缸、后浸缸外,其他缸应每周更换一次,每个清洗缸也应每周清洗一次。
三.镍沉淀
镍沉淀成分的主要溶液为镍(5.1-5.8g/L)、还原剂次磷酸钠(25-30g/L)和稳定剂。由于化学镍对溶液成分有严格要求,生产过程中必须每班分析测试两次,并根据裸铜面积或生产板经验补充镍还原剂。
我们应该遵循少量、分散、反复加料的原则,防止局部浴液反应剧烈,导致浴液加速老化。酸碱度和镀液温度对镍的厚度影响很大,镍溶液的温度控制在85-90。当酸碱度为5.3-5.7时,镍浴的温度应降至70左右,以减缓镀液的老化。化学镀镍液对杂质敏感,很多化学物质成分对化学镀镍有害,可分为以下几类:抑制剂:含Pb。Sn  .Hg  .Ti  .Bi(重金属在低熔点),
有机杂质包括s、硝酸和阴离子湿润剂。这些物质都会降低活性,导致化学镀速度降低,漏镀。当受到严厉惩罚时,化学镀镍过程将完全停止。
有机杂质:包括:除上述有机稳定剂外,增塑剂和来自设备和焊锡的杂质。虽然一些杂质可以通过连续电镀去除,但不能完全去除。
不稳定因素:包括钯和少量铜。这两种成分由于化学镀镍不稳定,使槽壁和加热器涂层粗糙过度。固体杂质:包括不溶性物质,如硫酸钙或磷酸钙,它们会沉入或被带入溶液中。过滤可以去除固体颗粒。
总之,在生产过程中,应采取有效措施减少这些杂质混入电镀液中。
第四,沉金
浸金是浸金技术的一种,主要用于浸金槽成分;Au(1.5-3.5g/l)和粘结剂(Ec0.06-0.16mol/L)可以代替镍磷合金层上的纯金电镀怪兽,使镀层光滑,结晶细腻。电镀液的pH值一般在4-5之间,温度控制在85-90之间。
V.后处理
沉淀金的后处理也是一个重要环节。对于印制线路板块,一般包括废金水洗涤、去离子水洗涤和干燥步骤。如果条件允许,可以通过水平洗板进一步清洗和干燥金水槽板。卧式洗板机可以用药液(硫酸10%,双氧水30克/升)、高压去离子水冲洗(30 ~ 50磅/平方英寸)、去离子水冲洗、吹干、烘干等方法彻底清除印制线,路面板孔内外的药液和水渍。方法,得到均匀的镀金板

多层线路板沉金工艺控制简介

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