代号 公制 英制 允许公差
单位面积质量(8/㎡) 标称厚度
(㎜) 单位面积质量(OZ/ft2) 标称厚度
(mils) g/㎡ ㎜
T(3/8) 107.0 0.012 0.35 0.47 ±10 ±0.001
H(1/2) 153.0 0.0172 0.50 0.68 ±15 ±0.0015
M(3/4) 229.0 0.0257 0.75 1.01 ±22 ±0.0025
1 305.0 0.0343 1 1.35 ±30 ±0.0035
2 610.0 0.0686 2 2.70 ±61 ±0.007
常见电解铜箔的品种、特性
代号 对照IPC中等级 特 性
STD 1级型 一般通用型产品
HD 2级型 常温延伸性,耐折性好
THE 3级型 常温延伸率大,高温延伸性良好
MP 粗化面为低粗化度,具有好的高温延伸性
LP(VLP、SLP) 粗化面为低粗化度,适用于精细图形的PCB上
3、电解铜箔的各种技术性能与其对覆铜箔板性能的影响。
(1)厚度。
铜箔厚度用公称厚度和质量厚度(g/㎡)来表示。
铜箔厚度标准
铜箔
代号 公制 英制 允许公差
单位面积质量(8/㎡) 标称厚度
(㎜) 单位面积质量(OZ/ft2) 标称厚度
(mils) g/㎡ ㎜
T(3/8) 107.0 0.012 0.35 0.47 ±10 ±0.001
H(1/2) 153.0 0.0172 0.50 0.68 ±15 ±0.0015
M(3/4) 229.0 0.0257 0.75 1.01 ±22 ±0.0025
1 305.0 0.0343 1 1.35 ±30 ±0.0035
2 610.0 0.0686 2 2.70 ±61 ±0.007
(2)外观。表面要求无异物,无变色,无铜粉,不允许光泽面(S面)凹凸不平。
(3)抗张强度与延伸率。STD型在高温下的延伸率和抗张强度较低,同时,由于它与基板材料热态下延伸率相差较大,会引起板的尺寸稳定性和平整性能变差,PCB的金属化孔的质量下降以及使用PCB时产生铜箔断裂问题。THE型和LP型在热态下延伸性方面比STD型铜箔优越。LP型因它的结晶结构更提高了它的韧性,在热态抗张强度方面更优于THE型铜箔,并在延伸率方面,高温下一直保持着与常态大致相同的性能。
(4)剥离强度。铜箔与基材在高温高压压制后,它们之间的粘合强度(成垂直方向受力),称为铜箔剥离强度(又称抗剥强度)。决定此性能高低与铜箔的品种,粗化处理水平和质量,耐热层处理方式和水平有关;纸基覆铜箔板还与涂敷的铜箔胶粘剂有很大关系。低粗化度的LP、VLP、SLP型铜箔,在制作精细线条的PCB和多层板上,其抗剥强度性能比一般铜箔(STD型),THE型更优异些。对铜箔产品剥离强度的测定,除常态条件外,还有:浸焊锡后(260℃)高温中(在125℃),加热处理后(48小时/180℃),吸湿条件处理后(18℃ HCL 21℃ 20分钟浸渍),氢氧化钠浸泡处理后(10% NaOH,80℃,2小时浸渍)。其中酸性或碱液处理后的剥离强度性能用劣化率(%)来表示。
(5)耐折性
压延铜箔高于电解铜箔。电解铜箔横向略高于纵向;压延铜箔纵向比较稳定,横向在150℃的热处理温度下,低于电解铜箔,在150℃以上,才逐渐显示出较高的耐折性。
(6)表面粗糙度
铜箔的粗化面(M面)的粗化度,有两表示:一种表示是平均粗化度(Ra),它表示在一定面积铜箔粗化面上,粗化膜峰高低的中心线的以外一侧(峰尖侧)的平均高度。另一种表示是最大粗化度(Rmax)。
(7)蚀刻性
低粗化度的铜箔蚀刻性能优于普通铜箔,具有蚀刻时间短,并保证细导线幅宽的尺寸精度的优点。
(8)抗高温氧化性
在180℃热空气中处理30分钟后,观察光泽面是否变色,与铜箔钝化处理的质量水平有关。
4、铜箔的厚度在17.5㎜(0.5OZ)以下称超薄铜箔(UTF)。生产厚度低于12㎜者,
必须要有“载体”的帮助。目前生产的9㎜和5㎜厚的UTE,主要采用铝箔(0.05~0.08mm)或铜箔(0.05㎜左右)作为载体。