放眼全球制造业领域，光刻机，荷兰ASML是第一巨头。ASML以超过10亿元的价格出售一辆EUV 光刻机，但即便如此，台积电和三星仍将争相购买。
它不仅在市场份额上远远超过其竞争对手，而且ASML对其技术优势也很有信心。ASML曾威胁说，即使EUV光刻机的画公之于众，也没有哪个企业能够自己制作。
这不是ASML的自夸，因为这是真的。EUV 光刻机集成了许多领域的尖端技术，其组件来自各个行业的顶级供应商，因此组装难度可想而知。
正因为如此，前巨人佳能和尼康一直愿意留在后面；中国领先的光刻机，制造企业上海微电子只在28纳米处征服了光刻机。
然而，这并不意味着中国愿意将核心技术掌握在外国公司手中。
中国有望解决光刻机“卡脖子”问题
因此，2020年下半年，中科院公开宣布，将聚集全医院的力量，克服光刻机的制造问题，帮助中国企业摆脱困境。
到目前为止，尽管没有来自中科院，的好消息，清华大学已经公布了最新的研究结果。据了解，这一成果有望解决光刻机问题，使国产芯片在未来大有可为。
2月25日，清华大学，工程物理系教授唐传祥，在国际权威期刊《Nature》上发表了关于论文新型粒子加速器光源“稳微多束”的研究。
同时，清华大学官网也透露了好消息。
笔者了解到，这与一种全新的光刻机光源技术有关。
众所周知，目前世界上只有美国和德国掌握了极紫外光源解决方案，ASML采用美国的解决方案。
但无论是美国还是德国的极紫外光源解决方案，都有两大问题：稳定性和寿命。这是因为方案需要不断激发滴锡滴，锡是易挥发的。因此，提高光源的功率相对困难。
另一方面，清华大学和他的团队研究的方案是用可控电子束辐射极紫外光，而不是激发发光。
与美国的方案相比，清华大学的成功研究在理论上具有更高的稳定性，并且更容易增加光源的功率。
如果这种解决方案最终能够落地并商业化，那么中国制造的光刻机，就有可能在弯道超车，不再受美国限制。
但是在实现的过程中，可以说是极其困难和危险的。我相信，一旦国产光刻机实现自主研发，未来国产芯片的可能性将是无限的。但在此之前，中国相关行业面临的挑战依然严峻。
行业资讯 
2021-03-03 17:55:00
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