刻蚀是半导体制造业的一个关键环节。刻蚀通过物理或化学方法去除硅晶片表面上不必要的材料，以便正确地将掩模图案复制到涂覆的硅晶片上。
刻蚀进程需要刻蚀机器。现在，虽然中国在光刻机领域难以突破，但在刻蚀机器领域已经有所突破。
中微半导体是刻蚀，的龙头企业，由尹志尧于2004年创立。
尹志尧是半导体领域的大人物，已经为英特尔和应用材料等巨头工作了20多年。目前，应用材料在全球刻蚀机械市场排名第三，份额为19%。
中微半导体5纳米刻蚀机成功进入台积电生产线
因此，尹志尧拥有丰富的行业经验。当时，有30多个精英团队与尹志尧一起回国。在这群人的共同努力下，中微半导体一直在深入挖掘中等刻蚀的领域，成为行业内新的黑马。
经过十多年的坚持，中微半导体成功实现了从65纳米到最先进的5纳米的突破。此外，中微半导体的5纳米刻蚀机已成功进入台积电生产线
因此，中微半导体成为mainland China本地设备制造商中唯一被台积电认可的制造商。
中微半导体的这一系列成就给美国带来了压力。为了抢占中国市场，2015年，美国商务部解除了对中国等离子刻蚀设备的出口管制。
中微半导体的突破与其对R&D的重视密不可分.
根据IPRdaily和incoPat近日联合发布的“科创板225家上市公司有效发明专利名单”，中微半导体排名第六，全球发明专利，共有1142家，数量可观。
中微半导体每年都投入大量资金进行研发，2019年公司在R&D投资4.25亿元.今年，公司收入为19.47亿元，R&D投资约占收入的21.8%。
这个比例堪比很多海外科技巨头。凭借在R&D的巨额投资，中微半导体可以如此迅速地取得辉煌的突破。
目前，中微半导体的性能不断提高。根据中微半导体2020年度业绩预测，归属于母公司所有者的净利润同比至少增长133.34%，达到4.4-5.2亿元。
中微半导体的迅速崛起引起了人们的关注。但也要认识到，目前公司规模有限，很难与半导体巨头竞争。
而且，刻蚀全球设备市场处于寡头垄断状态，盘林半导体、TEL、应用材料三大巨头占据了行业内近91%的市场。这给中微半导体的发展带来了挑战。
此外，刻蚀设备更新速度快，所以中微半导体必须不断克服，保持技术领先。
行业资讯 
2021-02-24 15:20:56
微信公众号
粤公网安备 44030702002479号
